半導体製造工程において、ウェハおよびフォトマスクの輸送は製品品質と歩留まりに直結する重要プロセスです。
特に国際間の長距離輸送では、輸送中に発生する振動や環境変化を正確に把握し、定量的なデータに基づいた管理体制を構築することが不可欠となります。
台湾―米国間を含む国際輸送 → 往復約9日、25,000km超の長時間モニタリングが必要
上下・左右を含む複合的な振動 → 実測G値の取得と許容範囲の明確化が必須
ウェハ・フォトマスクは極めて高精度 → 微小な振動でも品質・成功率に影響
長期間・高頻度での計測環境 → 記録欠損を防ぐ大容量メモリが求められる
従来は経験則に依存 → 実測データによる管理基準の策定が必要
国内外の生産拠点拡張を想定 → 継続的かつ再現性の高い運用が前提
TSMC（台湾積体電路製造）では、MSR 175 Plus を台湾―米国間の輸送に採用しています。
往復約9日、約25,000kmに及ぶ長距離輸送において、輸送中に発生する上下・左右の振動を継続的に記録し、実測データの取得を行っています。
特に、長期間にわたる測定環境においても、高容量メモリと長時間駆動によりデータ欠損が発生しにくい点が評価されています。
輸送期間が長くなることで振動データが蓄積されても、記録容量不足によるデータ消失の懸念が少ないことが、採用理由の一つとなりました。
MSR 175 Plus の導入により、輸送中の振動がフォトマスクに与える影響を、定量的なデータとして把握できるようになりました。
これにより、振動に関する評価を数値ベースで整理し、輸送条件に対する検討や将来的なリスク低減に活用されています。
結果として、フォトマスク輸送の成功率向上に寄与しています。
本取り組みは一時的な対応ではなく、今後も台湾―米国間のフォトマスク輸送において、MSR 175 Plus を用いた振動モニタリングが継続的に行われる予定です。
TSMC のエンジニアからは、
「振動を定量的に把握する必要がある企業や技術者に推奨できる製品」
として評価されています。
衝撃および振動計測に対応した MSR175plus
数か月間にわたる重要な輸送データを連続記録可能
各チャンネル最大 1024 Mpts の高速サンプリング
GPS による位置情報と輸送イベントの関連付けが可能
操作が簡単で、輸送リスク評価に適した設計
We offer best-in-class custom solutions for many different types of projects.
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